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GB/T 6609.7-2004 氧化铝化学分析方法和物理性能测定方法 二安替吡啉甲烷光度法测定二氧化钛含量 现行 免费
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替代关系:代替原 GB/T 6609.7-1986《氧化铝化学分析方法 三辛基氧化膦 -硫氰酸盐光度法测定二氧化钛量》
GB/T 6609.8-2004 氧化铝化学分析方法和物理性能测定方法 二苯基碳酰二肼光度法测定三氧化二铬含量 现行 免费
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替代关系:代替原 GB/T 6609.8-1986《氧化铝化学分析方法 二苯基碳酰二肼光度法测定三氧化二铬量》
GB/T 6609.9-2004 氧化铝化学分析方法和物理性能测定方法 新亚铜灵光度法测定氧化铜含量 现行 免费
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发布日期:2004-02-05实施日期:2004-07-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6609.9-1986《氧化铝化学分析方法 二乙基二硫代氨基甲酸铅光度法测定氧化铜量》
GB/T 661-2011 化学试剂 六水合硫酸铁(Ⅱ)铵(硫酸亚铁铵) 现行 免费
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替代关系:代替原 GB/T 661-1992《化学试剂 六水合硫酸铁(Ⅱ)铵 (硫酸亚铁铵)》
GB/T 6611-2025 钛及钛合金术语和图谱 现行 免费
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替代关系:代替原 GB/T 6611-2008《钛及钛合金术语和金相图谱》
GB/T 6614-2014 钛及钛合金铸件 现行 免费
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发布日期:2014-09-03实施日期:2015-06-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6614-1994《钛及钛合金铸件》
GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 现行 免费
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发布日期:2023-08-06实施日期:2024-03-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6616-2009《半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法》
GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法 现行 免费
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发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6617-1995《硅片电阻率测定 扩展电阻探针法》
GB/T 6618-2009 硅片厚度和总厚度变化测试方法 现行 免费
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发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6618-1995《硅片厚度和总厚度变化测试方法》
GB/T 6619-2009 硅片弯曲度测试方法 现行 免费
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发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6619-1995《硅片弯曲度测试方法》
GB/T 6620-2009 硅片翘曲度非接触式测试方法 现行 免费
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替代关系:代替原 GB/T 6620-1995《硅片翘曲度非接触式测试方法》
GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法 现行 免费
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发布日期:2009-10-30实施日期:2010-06-01层级:国家标准分类:GBT推荐性 0 浏览
替代关系:代替原 GB/T 6621-1995《硅抛光片表面平整度测试方法》
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